第54回市村学術賞貢献賞を受賞

2022年4月25日



国立研究開発法人情報通信研究機構

2022年4月15日、未来ICT研究所小金井フロンティア研究センターグリーンICTデバイス研究室東脇 正高室長が、第54回市村学術賞貢献賞を受賞いたしました。

市村賞は、わが国の科学技術の進歩、産業の発展に顕著な成果をあげ、産業分野あるいは学術分野の進展に多大な貢献をされた個人またはグループに対して、公益財団法人市村清新技術財団より贈呈される賞です。

今回、市村学術賞貢献賞を受賞することになった業績は、「酸化ガリウムデバイスの先駆的研究開発」です。

受賞者は、世界初の酸化ガリウム (Ga2O3) トランジスタの動作実証を果たしたことを皮切りに、これまで数々のデバイスプロセス、エピタキシャル成長技術を開発し、それらをマイルストーンと位置づけられる新規デバイスの実現、優れたデバイス特性の実証につなげました。さらに、一連の研究開発成果・技術を移転したGa2O3ベンチャー企業の設立に貢献するなど、多くの優れた研究業績、産業化に向けた活動等により、現在までGa2O3デバイス・材料分野を牽引し続けています。
 
市村賞贈呈式の様子
市村賞贈呈式の様子(左から3番目が東脇室長)